Line Track Skip to content

การยกระดับงานวิจัยและเพิ่มขีดความสามารถในการแข่งขันทางอุตสาหกรรมด้วยเทคนิคการวิเคราะห์วัสดุนาโนขั้นสูงแบบ Operando/In situ XAS

การยกระดับงานวิจัยและเพิ่มขีดความสามารถในการแข่งขันทางอุตสาหกรรมด้วยเทคนิคการวิเคราะห์วัสดุนาโนขั้นสูงแบบ Operando/In situ XAS

รายละเอียด:

การยกระดับงานวิจัยและเพิ่มขีดความสามารถในการแข่งขันทางอุตสาหกรรมด้วยเทคนิคการวิเคราะห์วัสดุนาโนขั้นสูงแบบ Operando/In situ XAS

การยกระดับงานวิจัยและเพิ่มขีดความสามารถในการแข่งขันทางอุตสาหกรรมด้วยเทคนิคการวิเคราะห์วัสดุนาโนขั้นสูงแบบ Operando/In situ XAS

Improving research and increasing industrial competitiveness through advanced nanomaterial analysis techniques by Operando/In situ XAS

       ปัจจุบันองค์ความรู้เรื่องการวิเคราะห์คุณสมบัติด้วยนาโนเทคโนโลยีมีบทบาทสำคัญในการพัฒนาเศรษฐกิจและขับเคลื่อนประเทศไทยเพราะสามารถยกระดับการแข่งขันอย่างยั่งยืนทั้งในงานวิจัยและอุตสาหกรรมเป้าหมายหลัก เช่น อุตสาหกรรมเกษตรและอาหาร อุตสาหกรรมพลังงานและวัสดุ อุตสาหกรรมสุขภาพและการแพทย์ อุตสาหกรรมชิ้นส่วนอิเล็กทรอนิกส์อัจฉริยะและไอที ดังนั้นการเข้าใจธรรมชาติหรือพฤติกรรมของวัสดุศาสตร์ในระดับโครงสร้างอะตอมย่อมเกิดประโยชน์ต่อการควบคุมสมบัติของชิ้นงานทางด้านวิศวกรรมศาสตร์ สมบัติทางกายภาพและเคมี ทำให้เกิดการต่อยอดการพัฒนาวัสดุนาโนให้มีความสามารถในการทำงานต่างๆ อย่างมีประสิทธิภาพตั้งแต่ระดับง่ายจนถึงระดับซับซ้อน ขึ้นอยู่กับความซับซ้อนของโครงสร้างและการนำไปใช้ประโยชน์ นอกจากนี้การศึกษาการเปลี่ยนทางกายภาพและทางเคมีของวัสดุนาโนขณะสังเคราะห์และระหว่างการใช้งานก็มีความสำคัญเป็นอย่างยิ่งที่จะใช้ในการอธิบายการทำงานของวัสดุนาโนเหล่านั้น ซึ่งจะนำไปสู่การออกแบบและพัฒนาวัสดุนาโนให้มีประสิทธิภาพอย่างเหมาะสม และตรงตามความต้องการใช้งานอีกด้วย จึงทำไปสู่การพัฒนาเทคนิค operando XAS เพื่อให้เข้าใจธรรมชาติที่แท้จริงของวัสดุ และสามารถนำข้อมูลที่ได้ไปพัฒนาวัสดุที่เหมาะสมต่อการนำไปใช้งานได้อย่างถูกต้องสมบูรณ์และมีประสิทธิภาพ โดยทั่วไปแล้ว operando XAS สามารถประยุกต์ใช้วิเคราะห์ธาตุได้ตั้งแต่ คาร์บอน ไปจนถึงธาตุหนักกลุ่มโลหะทรานสิชันได้ ส่งผลให้วิเคราะห์ธาตุได้หลากหลาย นอกจากนี้ยังสามารถใช้ศึกษาการเปลี่ยนแปลงโครงสร้างอิเล็กตรอนของวัสดุนาโน หมู่ฟังก์ชันของสารอินทรีย์บนผิวหน้าวัสดุ รวมไปถึงกลไกการถ่ายโอนอิเล็กตรอนบนโครงสร้างของวัสดุและกลไกการเกิดอันตรกิริยาบนผิวหน้าของวัสดุ เนื่องจากเทคนิค operando คือการนำเอาเทคนิค XAS มาต่อประกอบให้ทำงานควบคู่ไปกับการวิเคราะห์ด้วยเทคนิค Fourier-transform infrared spectroscopy (FTIR) และหรือเทคนิค Raman และหรือเทคนิค  UV-Vis spectrophotometry (UV-Vis) และหรือเทคนิค GC-MS ตลอดจนต่อประกอบกับระบบ impedance spectroscopy (EIS) ทำให้สามารถนำมาประยุกต์ใช้ในการศึกษาเชิงลึกเกี่ยวกับการเปลี่ยนแปลงโครงสร้างระดับอะตอมของวัสดุนาโนในขณะทดสอบปฏิกิริยาจริง ซึ่งจะมีประโยชน์เป็นอย่างมากต่อการศึกษาระบบการทำงานของวัสดุนาโน โดยเฉพาะตัวเร่งปฏิกิริยา ระบบการอัดและคายประจุของแบตเตอร์รี่ และชิ้นส่วนจิ๋วในอุตสาหกรรมต่างๆ ได้

        ผู้ดำเนินการสัมมนา : ดร. พงษ์ธนวัฒน์ เข็มทอง และ ดร. กมลวรรณ ธรรมเจริญ

วิดีโอบันทึกการสัมมนา

กำหนดการ

วันที่ 29 มีนาคม 2564

13.30 – 13.45 น.

หัวข้อบรรยาย “ขอบเขตการศึกษาโครงสร้างวัสดุนาโนเชิงลึกด้วยเทคนิค XAS”

โดย ดร.พินิจ กิจขุนทด
สถาบันวิจัยแสงซินโครตรอน (องค์การมหาชน)

13.45 – 14.15 น.

หัวข้อบรรยาย “ขีดความสามารถของระบบ in situ XAS สำหรับงานวิจัยทางด้านวัสดุนาโน”

โดย ดร.ณัฐวุฒิ โอสระคู
มหาวิทยาลัยเทคโนโลยีสุรนารี 

14.15 – 14.45 น.

หัวข้อบรรยาย “การเพิ่มศักยภาพงานวิจัยทางด้านวัสดุศาสตร์ด้วยระบบ  Operando XAS”

โดย ผศ.ดร.ศิรินุช ลอยหา
ภาควิชาเคมี คณะวิทยาศาสตร์ มหาวิทยาลัยขอนแก่น

14.45 – 15.15 น.

หัวข้อบรรยาย “การประยุกต์ใช้ระบบ  in situ/Operando XAS ในการยกระดับงานวิจัยเพื่ออุตสาหกรรม”

โดย ดร.บุญรัตน์ รุ่งทวีวรนิตย์
ศูนย์นาโนเทคโนโลยีแห่งชาติ

15.15 – 15.30 น.

กิจกรรมร่วมเสวนาและตอบข้อซักคำถามเพิ่มเติม

เกี่ยวกับวิทยากร:

Tag

รายการสัมนา

Share:

Facebook
Twitter
Email

บริการของ สวทช.

สวทช. สนับสนุนผู้ประกอบการธุรกิจเทคโนโลยีและนวัตกรรม สามารถเข้าถึงเทคโนโลยีได้ง่ายขึ้น ลดความเสี่ยงของการลงทุนวิจัยพัฒนา และเข้าใจการทาธุรกิจเทคโนโลยีดียิ่งขึ้น

การถ่ายทอดเทคโนโลยี

การเงิน ภาษี และมาตรการส่งเสริม

กลไกส่งเสริมธุรกิจ SMEs / Start-up

การพัฒนาบุคลากรด้านวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยี

โครงสร้างพื้นฐานสาคัญทางวิทยาศาสตร์ และนิคมวิจัยของประเทศ

สอบถามบริการ สวทช.

ติดต่อ ฝ่ายธุรกิจสัมพันธ์
E-mail: brc@nstda.or.th
Call center: 02 564 8000