MTEC
BIOTEC
NECTEC
NANOTEC

tsp

 

httpnstdachannel.tv

 

จดหมายข่าวรัฐบาลเพื่อประชาชน

 

    กระบวนการลดความฝืดของทังสเตนคาร์ไบด์-โคบอลต์โดยการฝังไอออนคาร์บอน

    Attention: open in a new window. PDFPrintE-mail

      เลขที่คำขอ
      201002515
      เลขที่ประกาศ
      55593
      เลขที่สิทธิบัตร
      16412
      ประเภทสิทธิบัตร
      ประดิษฐ์เคมี
      ชื่อสิ่งประดิษฐ์/การออกแบบ
      กระบวนการลดความฝืดของทังสเตนคาร์ไบด์-โคบอลต์โดยการฝังไอออนคาร์บอน
      บทคัดย่อ
       
      ข้อถือสิทธิ์
       
      ผู้ขอจดสิทธิบัตร
      สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ
      ผู้ประดิษฐ์/ออกแบบ
      นายถิรพัฒน์ วิลัยทอง, นายยู เหลียงเติ้ง, นายจี โอฟฟรีย์ ดับเบิลยู ชูยว์

        Items details

        • Hits: 4509 clicks
        • Average hits: 49 clicks / month

        TCE-Plugin by www.teglo.info



        บทความนี้มีประโยชน์มากน้อยเพียงใด: / 12
        น้อยมากที่สุด